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2008-11-02
关于XRD图谱半峰宽的一点补充的补充 - [Memories]
远 | 发表于2008-10-26 11:07:20 我想问你关于XRD计算粒径的问题，请老师指导！我做的xrd数据分析中半高宽都没有给出单位，大概都是.889 这样的，数据也不知道是0.889还是889，而且我的仪器显示的波长是1.54056，我要问的是：我还需要把0.889换算成弧度吗？还有波长1.54056也是对的吧？仪器应该不会错误吧？非常感谢您能给出指导和批评！
附图：
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2008-10-31
微观硬度表征的是什么东西？ - [Memories]
观点仅供参考——成锡注
微观硬度表征的是什么东西？
悬赏分：20 - 解决时间：2007-9-4 08:59
微观硬度表征的是什么东西？微观硬度和维氏硬度以及布氏硬度的区别是什么？
提问者： liugongqi - 初学弟子 一级
最佳答案
微观硬度（microhardness)，通常翻译成显微硬度，他是用一个很小的压头在材料表面压出一个很浅的凹坑，根据凹陷深度... -
2008-09-07
期刊名全称和缩写对照zz - [Memories]
发信人: yisnow (d1), 信区: Polymer
标 题: [攒rp]期刊名全称和缩写对照
发信站: 两全其美网 (Thu May 10 16:04:03 2007), 本站(lqqm.net)
Journal Titles and Abbreviations
A
Acc. Chem. Res. Accounts of Chemical Research
AC... -
2008-08-20
名词解释—应力、应变 - [Memories]
物体由于外因(受力、湿度变化等)而变形时，在物体内各部分之间产生相互作用的内力，以抵抗这种外因的作用，并力图使物体从变形后的位置回复到变形前的位置。在所考察的截面某一点单位面积上的内力称为应力。同截面垂直的称为正应力或法向应力，同截面相切的称为剪应力或切应力。应力会随着外力的增加而增长，对于某一种材料，应力的增长是有限度的，超过这一限度，材料就要破坏。对某种材料来说，应力可能达到的这个限度称为该种材料的极限应力。极限应力值要通过材料的力学试验来测定。将测定的极限应力作适当降低，规定出材料能安全工作的... -
切削加工仿真技术的一个发展动向是研究解析切削加工过程中的物理现象，如被加工材料因塑性变形而产生热量，被切除材料不断擦过刀具前刀面形成刀屑后被排出，以及由刀具切削刃切除不需要的材料而在工件上形成已加工面等，并将这一系列切削过程通过计算机模拟出来，目前能达到这种理想目标的产品还为数不多。 Third wave systems公司的“advantedge”是采用有限元法对切削加工进行特殊优化解析的软件产品，与用于构造解析的有限元法程序包比较，其最大优点是用户界面优良，机械加工的技术...
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2008-06-19
关于磁场强度对阴极工作电压的影响 - [Memories]
关于磁场强度对阴极工作电压的影响，摘录两个信息。
1 资料来源： http://hi.baidu.com/87950774
磁场的强度会影响阴极工作的电压。工作电压随着磁场的增加而降低。工作电压也随着靶上
的刻蚀加深而降低，这是因为靶的表面会越来越接近磁场（相当于磁场增强）。因此，实际
可以使用的靶的厚度也是有限制的。较厚的非磁性靶能够在较强的磁场中使用。铁磁体材料
... -
2008-06-19
关于蒸发法镀膜的一点补充 - [Memories]
在上N期中我们说到，气体放电是离子溅射过程的基础。根据气体放电的伏安特性曲线，可以将此过程分为如下几个阶段：汤生放电（末期为电晕放电）、辉光放电（开始的正常辉光放电和后期的异常辉光放电，由于异常辉光放电能够提供面积较大、分布较为均匀的等离子体，因而其是一般薄膜溅射方法经常采用的放电形式）、弧光放电（首先发生电弧击穿现象，之后进入非热平衡电弧放电，随着电流进一步增大、电压进一步下降，最终进入热平衡电弧放电阶段）。
电弧蒸发方法即利用了弧光放电过程中物质的蒸发现象。此时，维持电极持... -
中国真空学会第六届三次理事会暨2008学术年会
[ 会议基本信息 ]
所属学科： 物理学 材料科学
会议类型： 国内会议
会议论文集是否检索： 不详
开始日期： 2008-10-17
结束日期： &... -
2008-06-19
关于XRD图谱半峰宽的一点补充 - [Memories]
Translated by Han Chengxi.
The technical term Full-Width Half-Maximum, or FWHM, is used to describe a measurement of the width of an object in a picture, when that object does not have sharp edges.
A simple box can be described j... -
2008-06-13
网友交流——flolj - [Memories]
请问：薄膜衬底的选择需要注意哪些因素？请指点。
floljf | 发表于2008-06-13 10:10:51
衬底（基体）的选择涉及到基体和薄膜匹配性问题，考虑方面主要有：
1 基体和薄膜材料的化学相容性
最理想的化学相容性结果，是指薄膜在制备过程中，界面性能不发生退化，物相在界面上不发生有害的化学反应，不产生弱化相。通过热力学计算与预测，可以改进薄膜的组分和沉积工艺参数，为减少乃至抑制界面... -
2008-06-06
EI 核心期刊和非核心期刊 2007 （转载） - [Memories]
1 Compendex (核心) 和 Page One (非核心) 分类
Compendex 数据：
数据的内容全面，主要包括：论文标题（Title）；作者（Authors）；第一作者单位（First author affiliation）；英文文摘（Abstract）；论文所在期刊名称（Serial title）；卷（Volume）期（Issue）；论文页码（Pages）；分类码（Ei classification codes）；主题词（Ei... -
硬质合金的生产
原文标题：什么是硬质合金？ 来源：baidu.com
现代的超硬质合金，是由碳化钨和一些其他元素的碳化物，用烧结方法生产的。它是把难熔金属（钨、钽、钛、钼等）的碳化物的硬质颗粒，跟一种或几种铁族元素（钴、镍或铁）的粉末混合后压制成型，再经烧结制成。
硬质合金是目前世界上强度最高的合金。现在广泛使用的硬质合金主要有两大类：第一类是以钴做粘结剂的碳化钨基合金；第二... -
Surface Science《表面科学》
荷兰 ISSN: 0039-6028，1964年创刊，全年78期，Elsevier Science 出版社出版，SCI、EI收录期刊，SCI 2003年影响因子2.063，2003年EI收录990篇。（包括《表面科学快报》）刊载界面物理和界面化学的基础理论和实验研究论文。
Surface and Coatings Technology《表面和涂层技术》
瑞士 ISSN... -
1 一个不晓得“持久力”究竟有多重要的人，一定是一个没有耐力的人，也一定不会成为一个真正成功的人。那些偶然间中了彩票的，当然不属于成功者之列，他们只不过是运气稍好些罢了。
2 有人说，成功源于长久的坚持，也有人说，成功源于良好的习惯；有人说，成功源于智商和情商之间的“平衡”，还有人说，成功源于完善的性格，而我说，成功其实就源于成功：大成功源于小成功，小成功源于更小的成功，而更小的成功则源于所谓的“失败&rdqu... -
2008-05-22
[成锡科普Flash]-1：堰塞湖 - [Memories]
[以下内容来源于百度，有删改] 堰塞湖定义 堰塞湖是由火山熔岩流，或由地震活动等原因引起山崩滑坡体等堵截河谷或河床后贮水而形成的湖泊。由火山溶岩流堵截而形成的湖泊又称为熔岩堰塞湖。
必须强调说明的是，堰塞湖的堵塞物不是永远固定不变的，它们也会受到冲刷、侵蚀、溶解、崩塌等等。一旦堵塞物被破坏，湖水便漫溢而出，倾泻而下，形成洪灾，极其危险。
堰塞湖形成过程
1、原有的水系。
2、原有水系被堵塞... -
2008-05-18
Earthquake - [Memories]
1 地震是怎么回事？
地震的发生是地球本身在不断变化的表现，是震源所在处的物质发生形体改变和位置移动的结果，同大海会有波涛汹涌，天空会有风云变幻一样，是一种自然现象，是完全可以认识的。地震可分为人工地震和天然地震。由人类活动（如开山、开矿、爆破等）引起的叫人工地震，除此之外便统称为天然地震。天然地震按成因主要可分为构造地震、火山地震、陷落地震、诱发地震四大类。地球上发生次数最多、破坏性最大的地震是构造地震。
2 地震“三要素”是什么
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2008-05-14
搜狐访谈：中国地震局研究员耿庆国：临震预测是可能的 - [Memories]
时间：2006年07月31日15:29
主持人：各位网友大家好，欢迎大家光临搜狐聊天室。今天是7月28日（指2006年7月28日——成锡注），是唐山抗震30周年的纪念日，这个访谈也是我们整个访谈系列的第十场，也是最后一场。我们最后一场请到的嘉宾，是中国地震局研究员、中国地球物理学会天灾预测专业委员会副主审耿庆国先生。
耿庆国：大家好。... -
2008-05-07
大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(节选)2 - [Memories]
2. 3 后处理
镀制好的基片从真空室内输送到大气中后, 一般还要经过清洗及检测。清洗的要求没有前处理那么严格。目的是使膜层的缺陷更容易暴露出来, 以便在后续的检测中被发现。最简单的检测就是目测, 为便于观察, 基片的底部分布有光源, 可以发现针孔的存在和数量, 有无放电的痕迹。出线端的透过率检测仪可以指出膜层最终的透过率。也可以在基片范围内布置多道探头, 采集数据由计算机处理来评估膜层的纵向和横向的均匀性及有无异常。对于特殊用途的光学薄膜出线后即进入净化室, ... -
2008-05-07
“我们的设备制造业到底差在哪里了？” - [Memories]
[成锡按]也许很多朋友还不清楚我的专业，实际上我也是学机械的，专业名称叫“机械制造及其自动化”。在经过若干时日之后的今天，当我“偶然”再次看到这篇帖子时，再也忍不住涌动在心底的郁闷和惆怅。耳边回想起我的师爷、山东大学机械系的教授、中国工程院院士艾兴在博士公共课上说的那句话，“机械制造业不是夕阳产业，永远都是朝阳产业！”可惜我到现在，才切身体会到这句话的分量。而又有多少人，体会到了这句话的分量了呢？
然后，很... -
2008-04-30
赵海波等：欧洲刀具涂层的最新状况及发展模式 - [Memories]
[成锡按]看问题，关键是有高度。做学问亦然。
赵海波, 高见, 周彤. 工具技术, 2005.
1．引言
自1980年Balzers将其物理涂层工具投人市场以来，几十年来，欧洲地区该项技术的应用及发展在世界领域起到了举足轻重的作用，随 着现代机械加工业高速加工时代的到来，世界各国也愈加注重涂层技术的应用与发展。欧洲刀具涂层技术自上世纪80年代中期以来得到了广泛发展，尤其是物理涂 层技术，可以说代表了当前世界最高水平。目前，欧洲物理... -
2008-04-28
大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(节选)1 - [Memories]
平面磁控靶的结构分为直冷式和间冷式两类。直冷式适合于气密性好的靶材。由于冷却效果好， 功率更大一些。间冷式的适合于气密性较差的靶材，功率要小一些。靶内磁体目前更多采用的是钕铁硼永磁体，只要保证磁场的均匀, 再在工作气体的布气装置上采用合理的方式，在整个靶面的区域内，实践证明均能获得均匀的溅射刻蚀。这是膜层横向均匀性的重要保证。
考虑到靶的两端所产生的边缘效应, 为使基片的两端也获得与中间部分相同的膜厚，靶的两端要伸出基片边缘足够的长度。高真空的背景是溅射沉积的必要条件，所以溅射... -
[成锡按]群里下周一晚上讨论镀膜基体的前处理，先简单写一点，讨论完后再作更新。
俗话说，“良好的开始是成功的一半”，这句话应用到镀膜技术上亦然。一个好的薄膜的获得离不开好的基体前处理工艺。自然，这里所说的“好”应该是多方面的，不能单单用一个“洁净”来概括。
然而无论怎样，我想对于基体的前处理，我们应该明确，或者说遵循的三方面，大致如下所述（姑且称之为“三原则”）... -
2008-04-25
5 薄膜的生长和薄膜结构：6 非晶薄膜 - [Memories]
薄膜材料(film material)的生长和体材料(bulk material)的生长其实有共通之处。我们来看先前一篇博文中的一段话：
“对于金属材料来说，通常情况下，金属及合金在从液体凝固成固体（例如炼钢后的钢水凝固成钢锭）时，原子总是从液体的混乱排列转变成整齐的排列，即成为晶体。因为只有这样，其结构才最稳定。但是，如果金属或合金的凝固速度非常快（例如用每秒高达一百万度的冷却速率将铁－硼合金熔体凝固），原子来不及整齐排列便被冻结住了，最终的原子排列方式类似于液体... -
2008-04-25
5 薄膜的生长和薄膜结构：6 非晶薄膜 - [Memories]
薄膜材料(film material)的生长和体材料(bulk material)的生长其实有共通之处。我们来看先前一篇博文中的一段话：
“对于金属材料来说，通常情况下，金属及合金在从液体凝固成固体（例如炼钢后的钢水凝固成钢锭）时，原子总是从液体的混乱排列转变成整齐的排列，即成为晶体。因为只有这样，其结构才最稳定。但是，如果金属或合金的凝固速度非常快（例如用每秒高达一百万度的冷却速率将铁－硼合金熔体凝固），原子来不及整齐排列便被冻结住了，最终的原子排列方式类似于液体... -
2008-04-25
电子衍射 electron diffraction - [Memories]
当电子波(具有一定能量的电子)落到晶体上时，被晶体中原子散射，各散射电子波之间产生互相干涉现象，称为电子衍射。
晶体中每个原子均对电子进行散射，使电子改变其 方向和波长。在散射过程中部分电子与原子有能量交换作用，电子的波长发生变化，此时称非弹性散射；若无能量交换作用，电子的波长不变，则称弹性散射。
在弹 性散射过程中，由于晶体中原子排列的周期性，各原子所散射的电子波在叠加时互相干涉，散射波的总强度在空间的分布并不连续，除在某一定方向外，散射波的总 强... -
2008-04-23
问题讨论：对几种薄膜硬度测试方法的评定 - [Memories]
发件人： 韩成锡 (hanchengxi@sohu.com) 发送时间： 2008年4月9日 16:28:15 收件人： miyanyu@mailst.xjtu.edu.cn彦郁：
你好。今天偶然在材料科学论坛看到一篇网友上传的你写的文章，觉得不错，有几个问题... -
2008-04-18
3 薄膜的物理气相沉积：溅射法 Part7 交流溅射 - [Memories]
上次我们谈到反应溅射，在制备电导率较低的化合物类涂层时，通常有两种选择，一是以化合物为靶材，使用射频溅射的方法，即在直流溅射设备的两电极之间接上一个交流电源，当其频率高于50kHz（通常为13.56MHz）时，相当于独立于设备之外施加了一个高频电场，此时在两极之间等离子体中不断振荡的电子将能够获得足够能量，与气体分子碰撞并使之电离，维持溅射过程的进行。但射频溅射结构复杂，需要配置阻抗匹配电路，另外对人体有伤害；或者是采用金属为靶材，即采用反应溅射的方法。
但直流反应溅射技术会遇... -
2008-04-11
3 薄膜的物理气相沉积：溅射法 Part6 反应溅射 - [Memories]
上几期我们简单谈了谈直流溅射、射频溅射和磁控溅射，今天来谈谈反应溅射，其中要讲到的一个比较重要的概念是“靶中毒”现象，这也是大家比较关心的一个问题。
在开始今天的话题之前，先来看几篇文章：
1 陶甫廷，王敬义，何笑明，王宇. 靶面化合物覆盖度的计算方法研究
大多数二元或多元陶瓷薄膜中有1个金属元素和1个氧、氮、碳或硼等非金属元素。用普通溅射来沉积这类薄膜时，靶的成分与薄膜一致。由于化合物靶在溅射时其溅射产额远比... -
2008-03-21
充电器 变压器 适配器（zz） - [Memories]
很多人认为充电器和变压器是没有区别的，只是叫法不同而已。其实，两者是有本质区别的。
充电器是把输入的交流电压转变成直流（低）电压，简单的符号表示法为：AC→DC; 变压器的输入电压是交流，输出电压仍是交流，只是输入和输出电压的大小发生了变化，简单的符号表示法为：AC→AC。
举个例子，国内使用的12V 500mA充电器的输入电压是AC220V，... -
物理量符 号数 值SI单位Cgs单位真空中的光速Ｃ2.997 924 58108m·s-11010cm·s-1标准重力加速度Ｇ9.806 65m·s-2102cm·s-2标准大气压Ｐ01.013 25105N·m-2106dyn·cm-2冰点温度Ｔ02.731 500102KK理想气体标准状态下摩尔体积V02.241 38310-2m3·mol-110-4cm3·mol-1气体...
韓成錫的工作博客—— Hanchengxi's Blog
世界是一張巨大的膜，人們都裹在這張膜裏。
